Por Roland Hernandez
NUEVA YORK. -
El reconocido pintor y promotor del arte dominicano Oscar Abreu inicia sus
actividades de 2014 con un novedoso concepto que une el mundo de la moda con
las artes plásticas, y la participación de varios diseñadores y una exhibición
colectiva.
Esta nueva propuesta cultural se titula “Ritmo, Color y
Estilo” y contará de un magnifico desfile de moda en medio de la exhibición de
cuadros de importantes artistas plásticos como Fernando Ureña Rib, Sócrates
Márquez, John Vanmeans, Luigi Jiménez, Dionisio Blanco, Jesús Desangles, Juan
Andújar, Pedro Gallardo, Melchor Terrero, E. Lee White, Aram Musset, Renato
Encarnación y Karima Abreu.
Anunció además, que aprovechará la oportunidad para
otorgar un reconocimiento a personalidades como los doctores Ramón Tallaj y
Eliecer Guzmán, el Congresista Charles Rangel, Empresario Artististico Felix
Cabrera, el dirigente comunitario Moisés Pérez, La comunicadora Patsi Arias y
el Rey de la Radio, Polito Vega, por sus grandes aportes sociales y
profesionales al desarrollo de la comunidad hispana en Estados Unidos.
El evento
está programado para el próximo jueves 13 de febrero, a partir de las seis de
la tarde, en los salones de eventos especiales de Harlem Work Space, ubicado en
el 2350 de la Quinta Avenida (esquina 142) Harlem.
De acuerdo con Abreu, "el público disfrutará de una
noche estelar con la presentación de las últimas tendencias en el mundo de la
moda donde las encantadoras modelos estarán exhibiendo el trabajo de
Milagros Batista, OnaOtite y Epperson”.
Para el evento han sido convocadas reconocidas
personalidades de la vida política, social y cultural de la comunidad
hispana de Nueva York y otras ciudades.
No hay comentarios:
Publicar un comentario